真空鍍膜機之薄膜均勻性概念你知道嗎？1.厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學薄膜的尺度上看（也就是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經相當好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內，也就是說對于薄膜的光學特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實現10A甚至1A的表面平整，具體控制因素下面會根據不同鍍膜給出詳細解釋。2.化學組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技術含量所在。 具體因素也在下面給出。3.晶格有序度的均勻性： 這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術中的熱點問題，具體見下。遵化市超越鈦金真空鍍膜設備，鍍鈦爐不銹鋼彩色管鍍膜機公司，是始終專注于PVD真空鍍膜設備與技術的專業(yè)制造商主要產品包括電弧離子鍍膜設備、直流/中頻磁控濺射鍍膜設備、工模具超硬質膜層加工中心等。本網站來源http://www.xueguanli.com.cn/
