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加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)
薄膜均勻性概念1.厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學(xué)薄膜的尺度上看(也就是1/10波長(zhǎng)作為單位，約為100A)，真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見(jiàn)光波長(zhǎng)的1/10范圍內(nèi)
真空鍍膜是設(shè)備在真空條件下，采用低電壓
薄膜均勻性概念1.厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學(xué)薄膜的尺度上看(也就是1/10波長(zhǎng)作為單位，約為100A)，真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見(jiàn)光波長(zhǎng)的1/10范圍內(nèi)
泵的排氣壓力與進(jìn)氣壓力之比稱(chēng)為壓縮比...
泵的排氣壓力與進(jìn)氣壓力之比稱(chēng)為壓縮比。壓縮比除與泵的級(jí)數(shù)和轉(zhuǎn)速有關(guān)外，還與氣體種類(lèi)有關(guān)。分子量大的氣體有高的壓縮比。對(duì)氮（或空氣）的壓縮比為108～109；對(duì)氫為102～104；
加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)
薄膜均勻性概念1.厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學(xué)薄膜的尺度上看(也就是1/10波長(zhǎng)作為單位，約為100A)，真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見(jiàn)光波長(zhǎng)的1/10范圍內(nèi)
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